据报道，台湾当局已就台积电前高管罗伟仁（Wei-Jen Lo）可能向外国实体转让商业秘密一事展开调查。 日经亚洲。在台积电工作了21年的罗伟仁今年从公司退休。随后，他于 10 月底出现在英特尔。 自由时报 报道称，他涉嫌窃取与台积电领先工艺技术相关的机密材料。英特尔和台积电均拒绝对此事发表评论。据报道，Lo 于 10 月底重新加入英特尔，担任“研发副总裁”，即离开台积电大约三个月后。 集邦咨询 报告指出。据称，担任公司战略发展高级副总裁的罗在离开台积电之前，指示下属向他提供受限技术文件的副本。据报道，这些文件涵盖了台积电的 N2、A16、A14 和后 A14 工艺技术及其衍生产品。据《自由时报》报道，由于他的职位很高，这些请求当时并未引起内部安全担忧。 《自由时报》的报道详细介绍了 Wei-Jen Lo 在英特尔的职责，即“从研发到量产前的先进设备和模块开发”。该角色涉及在全面生产之前监督新的生产设备和工艺模块。虽然大型芯片制造商的副总裁职位的此类职责可能显得较低，但考虑到“模块所有者”或“流程所有者”角色通常管理特定的工作线，但考虑到设备调整和工具设置对半导体性能和产量的重要性，英特尔本可以设立此职位来监督新的晶圆厂工具。台积电涵盖N2、A16、A14和后A14工艺技术的秘密文件不太可能对英特尔已经量产的18A工艺技术产生重大帮助。英特尔工程师对 18A 进行了独特的调整，以优化缺陷密度和 CD 均匀性。 18A工艺在多个方面与N2和A16显着不同。例如，18A 利用了图案整形，而 N2 则没有。此外，A16 采用 Super Power Rail 进行背面供电，直接向每个晶体管的源极和漏极供电，而 18A 的 PowerVia 则向晶体管触点供电。因此，台积电的特定工艺经验对英特尔工程师的直接价值有限，尽管它对英特尔的竞争分析团队可能很有价值。未来的节点，如Intel的14A和台积电的A14，也会出现明显的分化；英特尔的 14A 计划在关键层使用高数值孔径 EUV 光刻工具，而台积电的 A14 将依赖低数值孔径 EUV 光刻工具和多重图案化。作为台积电先进技术开发的领导者，Lo 可以为英特尔的工艺开发、集成和制造组织提供宝贵的文化见解。台积电最初为罗的离职举办了一场告别活动，纪念他在台积电工作 21 周年。离开后，他获得了由副院长萧美琴颁发的工研院院士称号。由于台积电认为他即将退休，据报道，他不需要签署竞业禁止协议，该协议通常禁止在竞争公司工作 18 个月，并提供半薪补偿。台积电目前正在调查罗是否确实转让了商业机密。 Wei-Jen Lo 最近担任高级副总裁，负责监督台积电研发组织内的技术开发。他于 2004 年加入台积电，担任运营 II 副总裁。 2006年至2009年，他领导研发部门。随后，他负责管理公司的先进技术业务和制造技术业务。在他的领导下，他的组织在全球积累了 1,500 多项专利，其中约 1,000 项在美国申请。据介绍，在任职台积电之前，罗博士曾在英特尔担任高级技术和生产职务，包括在 1997 年至 2000 年间监督该公司的圣克拉拉开发基地。 组织。他的早期职业生涯包括在美国大学任教，并在摩托罗拉研发组织和施乐微电子中心担任研究职务。
